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拋光盤的平面精度對平面拋光精度的影響

拋光盤的平面精度對平面拋光精度的影響

拋光盤的平面精度與其精度的保持性決定了平面拋光的精度。因此為了使工件獲得高精度的加工平面,必須使用高精度平面的拋光盤。在拋光高精度面積較小的平面加工件時,要使用彈...
油性研磨液和水性研磨液在平面研磨機上的應用

油性研磨液和水性研磨液在平面研磨機上的應用

研磨液有油性和水性之分,兩者都在平面研磨機上有較大的應用范圍。但是兩者是存在一些區(qū)別的,最本質的區(qū)別就是油性研磨液配料用的是油,也就是成分中大部分輔助材料是油;而水...
拋光液作用和濃度對工件的影響

拋光液作用和濃度對工件的影響

拋光液對拋光機的作用 可能很多從事化工行業(yè)的朋友都知道拋光機的構成及運用,在運用的過程中一些輔助材料的使用在生產提供很大的方便,使機器能高效率的運轉,提高生產的效率...
吸附墊的應用

吸附墊的應用

吸附墊,主要用于半導體硅晶體材料,寶石晶體片,硅片外延片等產品的單面拋光,屬于電子材料 的拋光裝置。這是一種圓形的、由多層樹脂材料組成的復合結構、硅片用水(或研磨液...
拋光墊性能對拋光液的影響

拋光墊性能對拋光液的影響

拋光墊將拋光液中的磨粒輸送到工件表面,使突起的部分平坦化,是輸送拋光液的關鍵部件。拋光墊的剪切模量及彈性模量、粗糙度和可壓縮性等機械特性對工件的平整度及去除率有著...
研磨發(fā)展的意義

研磨發(fā)展的意義

研磨是用磨具中的磨料作用于被加工工件表面,進行微量加工的過程。人類采用研磨加工的歷史悠久,應用領域廣泛。古代,研磨用于擦光寶石、銅鏡等;近代,研磨作為拋光的前道工...
平面研磨加工技術

平面研磨加工技術

新光速指出平面研磨過程是一個受許多因素影響的復雜加工過程。研磨加工的方式、磨具的材質和粒度、被加工材料的力學、物理、化學性能、研磨過程中的環(huán)境、壓力和速度等因素,...
精密平面研磨加工技術特點

精密平面研磨加工技術特點

初始研磨時,由于磨粒尺寸大小不一,大顆粒所承受較大的壓力會發(fā)生磨粒嵌入工件的現(xiàn)象,使表面形成較大而深的劃痕,嚴重影響加工質量的提高。新光速認為隨著加工的繼續(xù),磨粒...
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